삼성전자가 네덜란드의 ASML이 선도하는 '대형 마스크 컨소시엄'에 가입하여 차세대 12인치 포토 마스크를 공동 개발한다. 이를 통해 2028년까지 고개구수(High-NA) 극자외선(EUV) 노광장비를 도입하는 계획도 확대한다. 이 협력은 6인치 마스크를 12인치로 전환하는 과정에 초점을 맞추고, 노광설비와 포토마스크 기술 동향을 공유하며 12인치 마스크 개발을 위한 공동 작업을 진행할 것이다.
포토마스크는 반도체 제조에서 중요한 역할을 하는 미세 회로 패턴을 전달하는 도구이다. 이번 협력을 통해 12인치 마스크로의 전환은 노광 면적을 줄이고 생산성을 향상시킬 수 있을 것으로 기대된다. 삼성전자와 ASML은 2028년까지 High-NA EUV를 활용한 첨단 D램 생산에 대한 협력을 더욱 강화할 예정이다. 이를 통해 공정 조건과 수율, 생산성을 검증하고 첨단 메모리 제조에 적용할 준비를 마칠 것으로 예상된다.
삼성전자의 대표이사 부회장은 이번 협력을 통해 기술 혁신의 중요성을 강조하며, ASML과의 협력을 강화해 'Next AI'를 위한 기술 기반을 구축할 것이라고 밝혔다. ASML의 CEO는 오랜 기간 협력해온 삼성전자와 함께 AI 시대를 선도할 혁신을 기대한다고 말했다. 두 기업은 앞으로도 계속해서 첨단 반도체 제조와 협력을 확대할 계획이다.