삼성전자와 SK하이닉스가 반도체 공정 개선과 수율 관리를 위한 핵심 인프라인 '분석실'을 대대적으로 업그레이드한다. 이들 기업은 차세대 검사 및 분석 장비를 도입하여 첨단 반도체 수율 확보 역량을 강화할 예정이다.
업계에 따르면, 삼성전자는 DS 부문에서 반도체 공정 분석실을 고도화하고 있으며, 협력사를 통해 새로운 차세대 장비 도입을 추진 중이다. 이로써 웨이퍼 자체를 검사하고 결함을 진단할 수 있는 새로운 인프라를 구축할 것으로 보인다.
분석실은 반도체 제조에서 수율과 신뢰성을 확보하고 공정 개선 여부를 판단하기 위한 중요한 진단 인프라로, 공정에서 발생하는 이상을 감지하고 문제의 원인과 해결책을 찾아낸다. 이를 통해 공정, 장비, 설계, 소재 부서 간의 정보를 공유하고 의사 결정을 지원한다.
삼성전자와 SK하이닉스는 각자의 분석실을 운영하며, 이번 업그레이드는 주요 반도체 제품의 수율 향상을 목표로 하고 있다. 이는 반도체 회로의 미세화와 고급 패키징 적용으로 공정의 난이도가 높아지면서 결함 분석 수요가 증가하고 있는 상황에서 이를 철저히 관리하여 수율을 높이기 위한 조치로 분석된다.
업계 관계자들은 이러한 업그레이드가 수율 관리의 중요성을 강조하며, 고객 요구에 부합하고 시장에 대응하기 위한 노력으로 해석하고 있다. 이에 따라 삼성전자와 SK하이닉스의 수율 관리 경쟁이 더욱 치열해질 것으로 전망된다.