SK하이닉스가 12조원을 투자하여 극자외선(EUV) 노광장비를 도입한다. 이 장비는 반도체 초미세 공정에 필수적이며, 생산능력과 선단 공정 전환을 가속화할 것으로 예상된다.
SK하이닉스는 네덜란드 ASML로부터 EUV 노광장비를 도입하기로 결정했다고 밝혔다. 이 거래는 총 11조9496억원에 이르며, 2027년 12월까지 약 2년에 걸쳐 진행될 예정이다. EUV 노광장비는 D램과 시스템 반도체 등에서 주로 사용되며, 더 미세한 회로를 그릴 수 있는 기술적 우위를 제공한다.
이번 도입으로 SK하이닉스는 EUV 장비 보유 대수를 두 배 가까이 늘리게 되며, 청주 M15 공장과 이천 M16 공장에 우선 배치할 예정이다. 또한, 이 장비는 10㎚급 6세대 D램 '1c' 등 차세대 반도체 생산을 강화하는 데 활용될 것으로 예상된다.
SK하이닉스 관계자는 "EUV 장비를 통해 AI 메모리 경쟁력을 강화하고, 범용 메모리 공급을 안정화할 것"이라며 "글로벌 메모리 수요에 대응하여 시장 리더십을 유지하겠다"고 밝혔다.