삼성전자가 극자외선(EUV) 공정에 국산 블랭크 마스크를 도입한다. 이는 삼성전자가 처음으로 국내 제조된 마스크를 사용하는 것이다. 이로써 해외 의존도가 높았던 블랭크 마스크의 국산화와 공급망 다변화가 현실화되고 있다.
업계 소식통에 따르면 삼성전자는 국내 업체 에스앤에스텍의 EUV 블랭크 마스크를 2분기에 도입할 계획이다. 현재 최종 평가가 진행 중이며, 이달 중이나 늦어도 다음달에 완료될 것으로 예상된다. 이에 대해 업계 관계자들은 "평가가 막바지에 이르렀으며 2분기에 도입할 예정"이라고 말했다.
반도체는 실리콘 웨이퍼에 회로를 그려 만든다. 블랭크 마스크는 반도체 회로를 그리기 전 필요한 핵심 소재로, 반도체 제조 과정에서 중요한 역할을 한다. 삼성전자는 지금까지 EUV용 블랭크 마스크를 수입해왔는데, 일본 기업인 호야와 아사히글라스가 대부분을 공급해왔다.
이에 따라 삼성전자는 국내 업체인 에스앤에스텍과 협력하여 국산 블랭크 마스크를 도입하게 되었다. 에스앤에스텍은 지난해 하반기에 전용 공장을 설립하여 EUV 블랭크 마스크를 공급하기 위한 준비를 마쳤다. 초기에는 일부 라인에 국산 마스크를 적용할 예정이며, 성능을 확인한 후 적용 범위를 확대할 것으로 예상된다.
EUV용 블랭크 마스크 국산화로 국내 반도체 공급망이 강화되고 수입 대체 효과가 기대된다. 이는 일본 제품에 대한 의존도를 낮추고 국내 반도체 소재 산업의 성장을 촉진할 것으로 전망된다. 또한, 세계 EUV용 블랭크 마스크 시장은 앞으로 성장이 예상되며, 이는 수요 증가와 함께 국내 기업에도 도움이 될 것으로 전망된다.